芯片制造是重中之●重,但我国发展略慢
虽然华为会ㄨ设计芯片,但归根结底,华为问题的最大根源在于芯片制造。在目前的行业中,芯片制造主要依赖两家公司,一家是台积电,另一家是三星。虽然我◥国在这方面也有一定的技术,但是实力上跟台积电还是有@ 很大差距的。最重要的是,目前台积电和三星已经在5nm、4nm等技术发展,而我国◢还停留在14nm,7nm制造成了问题。
造□ 成这种情况的主要原因是我国无法进口EUV光刻机。因为ξ传统的DUV光刻机无法制造7nm及以上的芯片产品,如果要打造先▲进技术,只能选择EUV光刻机。但由于各种因素的限制『,相关设备◥长期无法采购,直接导致我国芯片制↘造进展缓慢。
没想到,EUV光刻机被盯上了▓
近日,光刻机新「规再次出炉。这条新规的出现让很多人措手不及,连台积电、三星等公司都没有想到。根据新规定●,阿斯麦未来生产的EUV光刻设备不仅需要获批出货,甚至不能进入外国公司在华分∞支机构。这意味着国内分支☆机构的外国芯片公司无法购买先进的EUV光刻设备。
要知道,台积电、三星、SK等全球芯片企业在中国都有大量的分厂,甚至SK的大部分※产能都是在中国完成的。这一规律的出★现,无疑将∏直接影响到这些公司的业绩。制造进度和发展状况。因此,无论是台积电还是Ψ 三星,都不能幸免于新规。
这一规律的出现,对企业的发展和我国企业的发展都是不利的。首先,对于企业来说,国内分厂无法采购先进设备,意味ζ 着这些分厂只能选择落后成熟的技术进行制造。而这也会导致一些企业选择性地出国建厂,增加建厂成本,增加风险。
其次,一旦公司离开国内市场到▓别处发展,将直接减缓当地的发展速度,对当地经济也是一种损失。
自主研发的光刻机在即
不难看出,新规其实是针对EUV光刻机和我国芯片发展速度的。但越是在这种情况下,光刻机的发展就越迫切。虽然我们可能无法实现所有部件的自主研发和生产,但只要对关键部件进行去美化,纯国产光刻机的制造和生产可能不是幻想。要知道,上海微电子在28nm光刻机的生产上取得〗了一些成绩,一些关键技术也取得了突破。只要保◇证这个状态,光刻机问题迟早会取得突破。